近来，由中国电子工程设计院股份有限公司牵头，联合清华大学、以色列安特蓝德科技有限公司承当的国家要点研制方案“政府间世界科学技能创新协作”要点专项“先进制程芯片用超纯水制备TOC降解要害技能”项目发动会暨实施方案论证会在京顺畅举行。世源科技工程有限公司、北京科技大学、北京工业大学等有关专家对项目实施方案进行评定。

  超纯水中总有机碳TOC含量是影响先进制程芯片产品良率的首要的要素，痕量TOC去除技能及配备一向被美国和日本独占。本项目针对先进制程芯片用超纯水制备工艺核心技能，经过中、以两边的深度协作，探求不同结构小分子有机物降解的首要机制，研制新式特异性波段UV体系要害组件，以期开发出具有世界领先水平的新工艺和新配备。项目为打破在芯片制作超纯水处理“卡脖子”技能的瓶颈供给技能支撑，在完成技能自主化和设备国产化方面具有极端重大意义。